Rapid Mask é a primeira película fotosensível, resistente ao jateamento, que pode ser revelada sem os processos de lavagem e secagem.
É possível, de fato, poucos minutos após a exposição, aplicar a película diretamente na superfície
a ser tratada e dar início ao processo de jateamento.
As características autodesivas e a velocidade de revelação conferem à Rapid Mask um notável valor em termos de praticidade e rapidez de utilização.
