Rapid Mask è la prima pellicola fotosensibile, resistente alla sabbiatura che si puo' sviluppare senza processi di lavaggio ed essicatura.
E' possibile infatti dopo pochi minuti dall' esposizione, applicare la pellicola direttamente sulla superficie
da trattare e dare inizio al processo di sabbiatura.

Le caratteristiche di autoadesione e velocita' di sviluppo, conferiscono a Rapid Mask un notevole valore in termini di praticita' e rapidita' d'uso.

Distributore esclusivo

Rotoli di pellicola fotosensibile per la produzione di maschere per microsabbiatura.