Rapid Mask est la première pellicule photosensible résistante au sablage, sans processus de lavage et de séchage

En effet, quelques minutes après l’exposition, on peut directement appliquer la pellicule sur la surface à traiter et démarrer le processus de sablage.

Les caractéristiques d’auto-adhérence et de vitesse de développement simplifient et accélèrent grandement l’emploi de Rapid Mask